Wet Chemical Processing to Form Nanotrenches along Step Edges on a Vicinal Si(111) Surface Composed of Terraces and Atomic Steps
Wet Chemical Processing to Form Nanotrenches along Step Edges on a Vicinal Si(111) Surface Composed of Terraces and Atomic Steps
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湿化学处理在由阶地和原子台阶组成的邻位 Si(111) 表面上沿台阶边缘形成纳米沟槽
DOI：
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发表时间：
2023
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Kazuya Yamamura
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Kenta Arima;Zhida Ma;Tetsuro Takeuchi;Ryuto Hashimoto;Rongyan Sun;Kazuya Yamamura
