Thermal waves of a nonaxisymmetric flow in a Czochralski-type silicon melt
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DOI：
10.1016/s0022-0248(99)00357-7
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发表时间：
1999-11
影响因子：
1.8
通讯作者：
Shin Nakamura;Miroru Eguchi;T. Azami;T. Hibiya
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Shin Nakamura;Miroru Eguchi;T. Azami;T. Hibiya
