Ultraviolet photoelectron spectroscopy study of Cu(200 nm)/Si substrates treated by Ar ion sputtering and vacuum annealing
Ultraviolet photoelectron spectroscopy study of Cu(200 nm)/Si substrates treated by Ar ion sputtering and vacuum annealing
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Ar离子溅射真空退火处理Cu(200 nm)/Si基体的紫外光电子能谱研究
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Y. Takakuwa
中科院分区：
文献类型：
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作者：
X. AJIASAIJIAN;Y. Kotanigawa;Y. Ohtomo;S. Ogawa;Y. Takakuwa
