A Fringe Pattern Analysis Technique for Photomask Line-Edge-Roughness Characterization
A Fringe Pattern Analysis Technique for Photomask Line-Edge-Roughness Characterization
复制标题
光掩模线边缘粗糙度表征的条纹图案分析技术
DOI:
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发表时间:
2023
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
Zhikun Wang, Kuan Lu
中科院分区:
文献类型:
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作者:
Zhikun Wang, Kuan Lu