Correlation between a-C:H film properties and Ar/CH4 dielectric barrier discharge
Correlation between a-C:H film properties and Ar/CH4 dielectric barrier discharge
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a-C:H薄膜性能与Ar/CH4介质阻挡放电的相关性
DOI：
10.1016/j.tsf.2005.08.145
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
2.1
通讯作者：
O. Takai
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
M. Bratescu;Y. Yoshizaki;Y. Suda;Y. Sakai;H. Sugawara;O. Takai
氮气射频等离子体辅助碳激光烧蚀中激发粒子的光谱测量
DOI：
--
发表时间：
2004
期刊：
Appl.Phys.A 79
影响因子：
--
作者：
K.Nagao;et al.;森直樹;荒木田大嗣;森直樹;森直樹;Y.Suda;M.Itoh;K.Takaki;田澤 将太;M.A.Bratescu;M.A.Bratescu
通讯作者：
M.A.Bratescu