蛍光X線ホログラフィー法によるエピタキシャル薄膜の構造評価
蛍光X線ホログラフィー法によるエピタキシャル薄膜の構造評価
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使用荧光 X 射线全息术评估外延薄膜的结构
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
高橋 幸生
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yukio TAKAHASHI;高橋 幸生
