エピタキシャル薄膜成長を利用したマイクロテクスチャ面の創成―(100)Si基板への極低速成長による創成―
エピタキシャル薄膜成長を利用したマイクロテクスチャ面の創成―(100)Si基板への極低速成長による創成―
复制标题
使用外延薄膜生长创建微纹理表面 - 通过在 (100) Si 基板上极慢的生长创建 -
DOI：
--
复制
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
尾方博紀，角田 陽
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
H. Suzuki K. Fujii;M. Okada;Y. Yamagata;鈴木浩文，岡田 睦，加藤英治，山田将博;鈴木浩文;鈴木浩文;鈴木浩文;Naoki Taira and Akira Kakuta;Akira Kakuta and Kyosuke Kanou;尾方博紀，角田 陽
