ミストCVD法によるWO3薄膜の成長
ミストCVD法によるWO3薄膜の成長
复制标题
雾气CVD法生长WO3薄膜
DOI：
--
复制
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
亀井龍真，井上泰一，小山政俊，小池一歩，矢野満明
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
K. Nagasaka;L. Liu;T. H. Tuan;T. H. Tuan;T. Cheng;M. Matsumoto;H. Tezuka;T. Suzuki;and Y. Ohishi;鮎澤祥史，森山竜太，寺沢巧斗，久保村航大，中山英俊;島田乃地，大橋亮太，巽雅史，小山政俊，前元利彦，佐々誠彦;亀井龍真，井上泰一，小山政俊，小池一歩，矢野満明
