T.Okumura and K.Shiojima: "Scanning Internal-Photoemission Microscopy:New Mapping Technique to Characterize Electrical Inhomogeneity of Metal-Semiconductor Interface" Jap.J.Appl.Phys.28. 1108-1111 (1989)
T.Okumura and K.Shiojima: "Scanning Internal-Photoemission Microscopy:New Mapping Technique to Characterize Electrical Inhomogeneity of Metal-Semiconductor Interface" Jap.J.Appl.Phys.28. 1108-1111 (1989)
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T.Okumura 和 K.Shiojima：“扫描内部光电发射显微镜：表征金属-半导体界面电不均匀性的新映射技术”Jap.J.Appl.Phys.28。
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