Y.C.Jung.et al: "High Quality Epitaxial Si Films onto γ-Al203 (111) Substrates using Al Predeposition Layer" Appl. Phys Lett.68. 3001-3003 (1996)
Y.C.Jung.et al: "High Quality Epitaxial Si Films onto γ-Al203 (111) Substrates using Al Predeposition Layer" Appl. Phys Lett.68. 3001-3003 (1996)
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Y.C.Jung.等人：“使用 Al 预沉积层在 γ-Al203 (111) 基板上形成高质量外延 Si 薄膜”Appl. Phys Lett.68 (1996)。
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