プラズマCVD SiO2/InAlN界面へのAl2O3超薄膜層挿入の効果
プラズマCVD SiO2/InAlN界面へのAl2O3超薄膜層挿入の効果
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等离子体 CVD 在 SiO2/InAlN 界面插入超薄 Al2O3 层的效果
DOI：
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
清野 惇，長谷崎泰斗，横田直茂，赤澤 正道
中科院分区：
文献类型：
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作者：
清野 惇;横田 直茂;赤澤 正道;清野 惇，長谷崎泰斗，横田直茂，赤澤 正道
