Temperature Dependence of Plasma Chemical Vaporization Machining of Silicon and Carbide
Temperature Dependence of Plasma Chemical Vaporization Machining of Silicon and Carbide
复制标题
硅和碳化物等离子化学汽化加工的温度依赖性
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
佐野泰久
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y. Sano;M. Watanabe;T. Kato;K. Yamamura;H. Mimura;and K. Yamauchi;佐野泰久
