Concentrations change of impurities in thin films by applying negative substrate bias voltage
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施加负基板偏压时薄膜中杂质浓度的变化
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
J. -W. Lim
中科院分区：
文献类型：
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作者：
J. -W. Lim
