Atsushi Masuda: "Novel thin-film fabrication method combining pulsed laser ablation and catalytic chemical vapor deposition: Application to preparation of Er-doped hydrogenated amorphous Si films"Proceedings of the 5th International Symposium on Sputterin
Atsushi Masuda: "Novel thin-film fabrication method combining pulsed laser ablation and catalytic chemical vapor deposition: Application to preparation of Er-doped hydrogenated amorphous Si films"Proceedings of the 5th International Symposium on Sputterin
复制标题
Atsushi Masuda：“结合脉冲激光烧蚀和催化化学气相沉积的新型薄膜制造方法：在掺铒氢化非晶硅薄膜制备中的应用”第五届国际溅射研讨会论文集
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
