熱プラズマジェット照射ミリ秒急速熱処理によるSi膜中ドーパントの活性化
熱プラズマジェット照射ミリ秒急速熱処理によるSi膜中ドーパントの活性化
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热等离子体射流辐照毫秒快速热处理激活硅膜中的掺杂剂
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
加久 博隆
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S.Higashi;H.Kaku;T.Okada;H.Murakami;S.Miyazaki;Hirotaka Kaku;Hirotaka Kaku;加久博隆;加久博隆;Hirotaka Kaku;Hirotaka Kaku;Hirotaka Kaku;H. Kaku;H. Kaku;加久 博隆
