Filament erasure in Cu/MoOx ReRAM investigated by in-situ TEM
Filament erasure in Cu/MoOx ReRAM investigated by in-situ TEM
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通过原位 TEM 研究 Cu/MoOx ReRAM 中的细丝擦除
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and Yasuo Takahashi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Masashi Arita;Yuuki Ohno;Atsushi Tsurumaki-Fukuchi;and Yasuo Takahashi
