Osamu Takai: "Microwave Plasma Processing for High Rate Deposition of Silicon Oxide Thin Films" Proc.Symp.IUMRS Int.Conf.in Asia. 1. 641-646 (1995)
Osamu Takai: "Microwave Plasma Processing for High Rate Deposition of Silicon Oxide Thin Films" Proc.Symp.IUMRS Int.Conf.in Asia. 1. 641-646 (1995)
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Osamu Takai：“用于氧化硅薄膜高速沉积的微波等离子体处理”Proc.Symp.IUMRS Int.Conf.in 亚洲。
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