D.c. arc plasma deposition of smooth nanocrystalline diamond films
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华盛顿特区
DOI：
10.1016/0925-9635(95)00283-9
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发表时间：
1995
影响因子：
4.1
通讯作者：
G. Sepold
中科院分区：
文献类型：
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作者：
V. Konov;A. Smolin;V. Ralchenko;S. Pimenov;E. Obraztsova;E. N. Loubnin;S. Metev;G. Sepold
