Study on resist layer thickness measurement for nanoimprint lithography based on near-field optics

Study on resist layer thickness measurement for nanoimprint lithography based on near-field optics
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基于近场光学的纳米压印光刻抗蚀剂层厚度测量研究

DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
International Journal Surface Science and Engineering (印刷中(掲載確定))
影响因子：
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通讯作者：
K. Takamasu
K. Takamasu
中科院分区：
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文献类型：
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作者：
S. Takahashi;S. Minamiguchi;T. Nakao;S. Usuki;K. Takamasu

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