シリコン亜酸化物(SiOx)膜のFGM化による放射冷却特性の向上
シリコン亜酸化物(SiOx)膜のFGM化による放射冷却特性の向上
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通过低氧化硅 (SiOx) 膜的 FGM 改善辐射冷却特性
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
後藤 孝
中科院分区：
文献类型：
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作者：
B.-P.Zhang;L.-S.Jiao;H.Masumoto;T.Goto;後藤 孝
