M.Ito et al.: "Silicon dioxide etching processes employing electron beam excited plasma"Abstract of American Vacuum Society 50^<th> International Symposium. PS-TuP1 (2003)
M.Ito et al.: "Silicon dioxide etching processes employing electron beam excited plasma"Abstract of American Vacuum Society 50^<th> International Symposium. PS-TuP1 (2003)
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M.Ito 等人：“采用电子束激发等离子体的二氧化硅蚀刻工艺”美国真空学会第 50 届国际研讨会摘要。
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