Marked difference in structural stability between Co2FeSi/Si(111) and Co2FeAl/Si(111) heterointerfaces in post-growth annealing conditions
Marked difference in structural stability between Co2FeSi/Si(111) and Co2FeAl/Si(111) heterointerfaces in post-growth annealing conditions
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Co2FeSi/Si(111) 和 Co2FeAl/Si(111) 异质界面在生长后退火条件下结构稳定性存在显着差异
DOI：
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and K. Hamaya
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S. Yamada;K. Tanikawa;S. Oki;M. Kawano;M. Miyao;and K. Hamaya
