Evaluation of Si_3N_4/Si interface by UV Raman spectroscopy
Evaluation of Si_3N_4/Si interface by UV Raman spectroscopy
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紫外拉曼光谱评价Si_3N_4/Si界面
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
他
中科院分区：
文献类型：
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作者：
A. Ogura;T. Yoshida;他
