パワーエレクトロニクス応用に向けたBi系酸化物MOCVD膜の配向制御

パワーエレクトロニクス応用に向けたBi系酸化物MOCVD膜の配向制御
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用于电力电子应用的 Bi 基氧化物 MOCVD 薄膜的取向控制

DOI:
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发表时间:
2016
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
遠藤和弘
遠藤和弘
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
河合伸哉;和田倫明;土屋哲男;有沢俊一;露本伊佐男;舘野康史;Petre Badica;遠藤和弘

文献摘要

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