蒸着法によるβ-FeSi_2生成層への残留不純物の影響

蒸着法によるβ-FeSi_2生成層への残留不純物の影響
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残留杂质对气相沉积法β-FeSi_2生成层的影响

DOI:
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发表时间:
2006
期刊:
第9回シリサイド系半導体研究会 9
影响因子:
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通讯作者:
石井 恂
石井 恂
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
M.Ishii;S.Hanamura;T.Miyata;T.Minami;石井 恂

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