Ab initio analysis of nucleation reactions during tungsten atomic layer deposition on Si(100) and W(110) substrates
Ab initio analysis of nucleation reactions during tungsten atomic layer deposition on Si(100) and W(110) substrates
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Si(100) 和 W(110) 衬底上钨原子层沉积期间成核反应的从头分析
DOI：
10.1116/1.5044740
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发表时间：
2018
影响因子：
2.9
通讯作者：
Parsons, Gregory N.
中科院分区：
文献类型：
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作者：
King, Mariah J.;Theofanis, Patrick L.;Lemaire, Paul C.;Santiso, Erik E.;Parsons, Gregory N.
