C_8F_<18>/ArプラズマCVDによるa-C : F膜堆積とその特性
C_8F_<18>/ArプラズマCVDによるa-C : F膜堆積とその特性
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Ar等离子体CVD沉积C_8F_<18>/a-C:F薄膜及其特性
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
田澤将太
中科院分区：
文献类型：
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作者：
小池広恵;酒井洋輔;菅原広剛;須田善行;田澤将太
