Z.-T.Jiang, K.Ohshimo, M.Aoyama,and T.Yamaguchi: "A study of Cr-Al Oxides for Single-layer Halftone Phase-shifting Masks for Deep-ultraviolet Region Photolithography" Jpn.J.Appl.Phys.36〔7A〕. 4008-4013 (1998)
Z.-T.Jiang, K.Ohshimo, M.Aoyama,and T.Yamaguchi: "A study of Cr-Al Oxides for Single-layer Halftone Phase-shifting Masks for Deep-ultraviolet Region Photolithography" Jpn.J.Appl.Phys.36〔7A〕. 4008-4013 (1998)
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Z.-T.Jiang、K.Ohshimo、M.Aoyama 和 T.Yamaguchi：“用于深紫外区域光刻单层半色调相移掩模的 Cr-Al 氧化物的研究”Jpn.J.Appl。物理.36 [7A] 4008-4013 (1998)。
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