T.Shinzawa,S.Kishida and H.Okabayashi: "“Selective Al CVD Using Dimethyl Aluminum Hydride"" Abstr.of Workshop on Tungsten and Other CVD Metals for ULSI/VLSI Applications VI,Part-2:Japan Workshop.Oct.55-57 (1989)
T.Shinzawa,S.Kishida and H.Okabayashi: "“Selective Al CVD Using Dimethyl Aluminum Hydride"" Abstr.of Workshop on Tungsten and Other CVD Metals for ULSI/VLSI Applications VI,Part-2:Japan Workshop.Oct.55-57 (1989)
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T.Shinzawa、S.Kishida 和 H.Okabayashi：““使用二甲基氢化铝的选择性 Al CVD””摘要。用于 ULSI/VLSI 应用的钨和其他 CVD 金属研讨会 VI，第 2 部分：日本研讨会。55 年 10 月-57 (1989)
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