H.Shirai: "Very stable aーSi:H prepared by“Chemical Annealing"" Japanese Journal of Applied Physics. (1991)
H.Shirai: "Very stable aーSi:H prepared by“Chemical Annealing"" Japanese Journal of Applied Physics. (1991)
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H.Shirai：“通过“化学退火”制备的非常稳定的 aSi:H”《日本应用物理学杂志》（1991 年）。
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