歪み補償系多重積層Ge/Si1-xCx自己形成量子ドットの構造評価
歪み補償系多重積層Ge/Si1-xCx自己形成量子ドットの構造評価
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应变补偿多层Ge/Si1-xCx自组装量子点的结构评估
DOI:
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发表时间:
2014
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
後藤和泰,大島隆治,菅谷武芳,坂田功,松原浩司,近藤道雄
中科院分区:
文献类型:
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作者:
Kazuhiro Gotoh;Ryuji Oshima;Isao Sakata;Takeyoshi Sugaya;Koji Matsubara and Michio Kondo;後藤和泰,大島隆治,菅谷武芳,坂田功,松原浩司,近藤道雄