A.Watanabe, M.Unno, F.Hojo, and T.Miwa: "Effect of Hydrogen Plasma Treatment on Formation of Amorphous Silicon Film Using Oragnosoluble Silicon Cluster as a Precursor"Jpn.J.Appl.Phys.. 30. L961-L963 (2000)
A.Watanabe, M.Unno, F.Hojo, and T.Miwa: "Effect of Hydrogen Plasma Treatment on Formation of Amorphous Silicon Film Using Oragnosoluble Silicon Cluster as a Precursor"Jpn.J.Appl.Phys.. 30. L961-L963 (2000)
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A.Watanabe、M.Unno、F.Hojo 和 T.Miwa：“氢等离子体处理对使用有机可溶性硅簇作为前体形成非晶硅膜的影响”Jpn.J.Appl.Phys.. 30. L961-
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