ALE成長SiドープGaAsN薄膜のアニール処理が比抵抗に与える影響
ALE成長SiドープGaAsN薄膜のアニール処理が比抵抗に与える影響
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退火对 ALE 生长的 Si 掺杂 GaAsN 薄膜电阻率的影响
DOI：
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
福山敦彦
中科院分区：
文献类型：
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作者：
横山祐貴;堀切将;原口智宏;山内俊浩;鈴木秀俊;碇哲雄;福山敦彦
