X-ray absorption near edge structures of silicon nitride thin film by pulsed laser deposition
X-ray absorption near edge structures of silicon nitride thin film by pulsed laser deposition
复制标题
脉冲激光沉积氮化硅薄膜边缘结构的 X 射线吸收
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
I.Tanaka et al.
中科院分区：
文献类型：
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作者：
I.Tanaka et al.
