J.D.Kim,S.Kawagoe,K.Susaki and T.Hata: "Target for a Pb(Zr.Ti)O_3 Thin Film Deposited at Low Temperature Using a Quasi-Metallic Mode of Reactive Sputtering"Jpn.J.Appl.Phys. 38[12A]. 6882-6886 (1999)
J.D.Kim,S.Kawagoe,K.Susaki and T.Hata: "Target for a Pb(Zr.Ti)O_3 Thin Film Deposited at Low Temperature Using a Quasi-Metallic Mode of Reactive Sputtering"Jpn.J.Appl.Phys. 38[12A]. 6882-6886 (1999)
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J.D.Kim、S.Kawagoe、K.Susaki 和 T.Hata：“使用反应溅射的准金属模式在低温下沉积 Pb(Zr.Ti)O_3 薄膜的靶材”Jpn.J.Appl.Phys。
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