A Comparative Study of n- and p-Channel FeFETs with Ferroelectric HZO Gate Dielectric
A Comparative Study of n- and p-Channel FeFETs with Ferroelectric HZO Gate Dielectric
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DOI：
10.3390/solids4040023
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发表时间：
2023-12-01
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Kurinec，Santosh
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Jacob，Paul;Patil，Pooja C.;Kurinec，Santosh
