Low-Temperature Diffusion at Ni/SiC Interface with the Aid of Femtosecond Laser-Induced Strain
Low-Temperature Diffusion at Ni/SiC Interface with the Aid of Femtosecond Laser-Induced Strain
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借助飞秒激光诱导应变的 Ni/SiC 界面低温扩散
DOI：
10.2961/jlmn.2015.03.0014
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Yasuhiro Tanaka and Tatsuya Okada
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yusuke Takidani;Kazuki Morimoto;Kenta Kondo;Tomoyuki Ueki;Takuro Tomita;Yasuhiro Tanaka and Tatsuya Okada
