K.Itakura, T.Homma, T.Osaka: "Effect of Deposition Site Condition on the Initial Growth Process of Electroless CoNiP Films" Electrochemical Acta. 44(印刷中). (1999)
K.Itakura, T.Homma, T.Osaka: "Effect of Deposition Site Condition on the Initial Growth Process of Electroless CoNiP Films" Electrochemical Acta. 44(印刷中). (1999)
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K.Itakura、T.Homma、T.Osaka：“沉积位点条件对化学镀 CoNiP 薄膜初始生长过程的影响”《电化学 Acta》44（出版中）。
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