UV直接照射アシストによるGaN基板の研磨の評価 第2報 ～酸化剤を用いた研磨高能率化～
UV直接照射アシストによるGaN基板の研磨の評価 第2報 ～酸化剤を用いた研磨高能率化～
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使用 UV 直接照射辅助的 GaN 基板抛光评价，第 2 次报告～使用氧化剂的高效抛光～
DOI：
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发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
二宮大輔
中科院分区：
文献类型：
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作者：
上田大成;松井伸介;山本栄一;坂東翼;矢島利康;二宮大輔
