Atomic-Scale Imaging of B/Si(111) √3 x√3 Surface by Noncontact Atomic Force Microscopy
Atomic-Scale Imaging of B/Si(111) √3 x√3 Surface by Noncontact Atomic Force Microscopy
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通过非接触原子力显微镜对 B/Si(111) √3 x√3 表面进行原子尺度成像
DOI：
10.1143/jjap.47.8218
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
M. Kageshima and Y. Sugawara
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M. Kinoshita;Y. Naitoh;Y. J. Li;M. Kageshima and Y. Sugawara
利用原子分辨率的非接触原子力显微镜（NC-AFM）对B/Si（111）<$3 × <$3表面进行了观察。在AFM图像中出现两种类型的斑点（暗点和亮点）。暗点对应于其中次表面原子是B原子的BS 5结构，而亮点对应于其中次表面原子是Si原子的Si-T 4结构。通过NC-AFM，我们成功地确定了表面下的原子种类之间的差异，如Si和B原子。
We observe the B/Si (111)√ 3×√ 3 surface by noncontact atomic force microscopy (NC-AFM) with atomic resolution. Two types of spot (dim and bright spots) appear in AFM images. The dim spots correspond to the BS 5 structure where the subsurface atom is the B atom, while the bright spots correspond to the Si-T 4 structure where the sub-surface atom is the Si atom. By NC-AFM, we successfully determine the difference between the atom species under the surface, such as Si and B atoms.