気相法によるマイクロパターン酸化グラフェンアシストシリコンエッチング
気相法によるマイクロパターン酸化グラフェンアシストシリコンエッチング
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气相法微图案化氧化石墨烯辅助硅蚀刻
DOI：
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发表时间：
2023
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
窪田航，山岡遼也，宇都宮徹，一井崇，杉村博之
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Wang Qian;Ma Ninshu;Luo Xiao-Tao;Li Chang-Jiu;小澤隆弘，近藤光，内藤牧男;上田 純平;山内祥弘;窪田航，山岡遼也，宇都宮徹，一井崇，杉村博之
