計算科学手法を用いたGaN CMPにおいて高い化学反応活性を有する研磨砥粒の検討
計算科学手法を用いたGaN CMPにおいて高い化学反応活性を有する研磨砥粒の検討
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利用计算科学方法研究 GaN CMP 中具有高化学反应活性的抛光磨粒
DOI：
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
五十嵐拓
中科院分区：
文献类型：
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作者：
伊藤健太郎;井上（安田）久美;伊野浩介;珠玖仁;五十嵐拓
