Y.Yamazaki, K.Shirai, H.Katayama-Yoshida: "Mechanism of suppression of light-induced degradation in amorphous silicon by CN treatment"Proc.26th Int.Conf.Phys.Semicond., Edinburgh 2002, eds.A.R.Long and J.H.Davies, IOP Conf.. 171. L.3.6 (2002)
Y.Yamazaki, K.Shirai, H.Katayama-Yoshida: "Mechanism of suppression of light-induced degradation in amorphous silicon by CN treatment"Proc.26th Int.Conf.Phys.Semicond., Edinburgh 2002, eds.A.R.Long and J.H.Davies, IOP Conf.. 171. L.3.6 (2002)
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Y.Yamazaki、K.Shirai、H.Katayama-Yoshida：“CN 处理抑制非晶硅中光诱导降解的机制”Proc.26th Int.Conf.Phys.Semicond.，爱丁堡 2002 年，eds.A.R.Long 和
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