Single-phase anatase structure and dominant metallic Ge in Ge/TiO2 multi-layer films using a sifferential pumping co-sputtering system
Single-phase anatase structure and dominant metallic Ge in Ge/TiO2 multi-layer films using a sifferential pumping co-sputtering system
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使用单相泵浦共溅射系统研究 Ge/TiO2 多层薄膜中的单相锐钛矿结构和主要金属 Ge
DOI：
10.1016/j.tsf.2014.03.080
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
2.1
通讯作者：
Masateru Nose
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Seishi Abe;Yoshitaka Adachi;Kenji Matsuda;Masateru Nose
