原子拡散を利用したフラット・パターニング法による[001] L10-FePtRh強磁性-反強磁性パターンの作製
原子拡散を利用したフラット・パターニング法による[001] L10-FePtRh強磁性-反強磁性パターンの作製
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[001]利用原子扩散通过平面图案化方法制造L10-FePtRh铁磁-反铁磁图案
DOI：
10.3379/msjmag.1201r005
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发表时间：
2012
影响因子：
--
通讯作者：
俊二 石尾
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
崇 長谷川;達也 冨岡;宏紀 川戸;信吾 高橋;祐治 近藤;治起 山根;明 荒川;俊二 石尾
研究了一种在[001]取向的L10FePt1-xRhx薄膜中利用铁磁(FM)-反铁磁(AF)转变的平坦图案化方法。通过在FePt1-xRhx薄膜上局部扩散少量的FePt原子，制备了几个点直径(D)的FM-AF图案。详细分析了图案的几何和磁学性质。只有成分超过FM-AF阈值的区域经历了磁相向FM相的转变。用磁力显微镜在AF100 nm的D≤范围内观察到了单畴结构的FM点。
A flat-patterning method that exploits ferromagnetic (FM)-antiferromagnetic (AF) transition in [001]-oriented L10 FePt1-xRhx films was investigated. FM-AF patterns with several dot diameters (D) were fabricated by locally diffusing a small percentage of FePt atoms onto the FePt1-xRhx film. The geometric and magnetic properties of the patterns were analyzed in detail. Only areas whose composition crossed the FM-AF threshold underwent a magnetic phase change to the FM phase. FM dots with single-domain structures were observed by magnetic force microscopy in the AF matrix in a range of D ≤ 100 nm.
影响因子：
3.2
作者：
T. Hasegawa;G. Li;W. Pei;H. Saito;S. Ishio;K. Taguchi;K. Yamakawa;N. Honda;K. Ouchi;T. Aoyama;I. Sato
通讯作者：
T. Hasegawa;G. Li;W. Pei;H. Saito;S. Ishio;K. Taguchi;K. Yamakawa;N. Honda;K. Ouchi;T. Aoyama;I. Sato