O-band silicon photonic Bragg-grating multiplexers using UV lithography
O-band silicon photonic Bragg-grating multiplexers using UV lithography
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使用 UV 光刻的 O 波段硅光子布拉格光栅多路复用器
DOI：
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
W. Shi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
J. St;S. Larochelle;W. Shi
我们展示了第一个基于布拉格光栅的4通道O波段（解）复用器，使用193 nm光刻在亚微米SOI上制造的小特征低于140 nm。
We demonstrate the first Bragg-grating-based 4-channel O-band (de-)multiplexer fabricated using 193nm lithography on submicron-SOI with small features below 140nm.