Atmospheric-Pressure Plasma Processes for Fabrication of Si and SiO_2 Thin Films at Low-Temperatures (Invited)
Atmospheric-Pressure Plasma Processes for Fabrication of Si and SiO_2 Thin Films at Low-Temperatures (Invited)
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低温常压等离子体工艺制备Si和SiO_2薄膜（特邀）
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
大参宏昌
中科院分区：
文献类型：
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作者：
安武潔;垣内弘章;大参宏昌
