Dynamic profile calculation of deposition resolution by high-energy electrons in electron-beam-induced deposition.
Dynamic profile calculation of deposition resolution by high-energy electrons in electron-beam-induced deposition.
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电子束诱导沉积中高能电子沉积分辨率的动态剖面计算。
DOI：
10.1016/j.ultramic.2004.11.011
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
2.2
通讯作者：
K. Furuya
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K. Mitsuishi;Z. Q. Liu;M. Shimojo;M. Han;K. Furuya
