Realization of near-less friction of ta-CNx coating under R32 refrigerant environment
Realization of near-less friction of ta-CNx coating under R32 refrigerant environment
复制标题
实现R32制冷剂环境下ta-CNx涂层近乎无摩擦
DOI：
10.1016/j.triboint.2022.107450
复制
发表时间：
2022
影响因子：
6.2
通讯作者：
Takao Ishimoto
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Wooyoung Lee;Motoyuki Murashima;Noritsugu Umehara;Takayuki Tokoroyama;Norihisa Horaguchi;Takao Ishimoto
利用离子束辅助过滤电弧沉积实现了用钽提高非晶氮化碳的硬度，从而在环境空气中获得低摩擦系数和低比磨损率。在不同的钽放电循环下，在涂覆过程中使用不同的氮气流量制备涂层。通过FESEM、AES、XPS和拉曼分析对磨痕和沉积表面进行观察和分析。 ta-C:Ta200 获得了最低的摩擦系数 (~0.07)，其磨损率较低，为 < 1.0 × 10−7mm3/Nm。 XPS分析表明存在非晶态Ta2O5，摩擦系数似乎与涂层中氧的解吸呈正相关。
Improving the hardness of amorphous carbon nitride with tantalum was realized by using ion beam assisted filtered arc deposition to obtain a low friction coefficient and low specific wear rate in ambient air. The coatings were prepared with different nitrogen flow during coating at different discharge cycles of tantalum. The wear scar and as-deposited surfaces were observed and analyzed by means of FESEM, AES, XPS, and Raman analysis. The lowest friction coefficient (~0.07) was obtained for ta-C:Ta200, which exhibited a low specific wear rate of < 1.0 × 10−7mm3/Nm. The XPS analysis revealed the existence of amorphous Ta2O5, and the friction coefficient seemed to be positively correlated with oxygen desorption from the coatings.
登录
查看更多内容
使用光谱反射法评估 DLC 涂层在油中滑动后的转化层
DOI：
10.1016/j.triboint.2013.01.010
发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
--
作者：
K. Ohara;N. Masripan;N. Umehara;H. Kousaka;T. Tokoroyama;S. Inami;K. Zushi;M. Fujita
通讯作者：
M. Fujita
反射光谱原位观察摩擦区域阐明CNx涂层油润滑摩擦机理
影响因子：
1
作者：
T. Okamoto;N. Umehara;M. Murashima;Koji Saito;K. Manabe;Keiji Hayashi
通讯作者：
Keiji Hayashi
智能摩擦表面：使用增材制造从概念到实现
影响因子：
3.7
作者：
Motoyuki Murashima;Shouta Yoshino;Masato Kawaguchi;Noritsugu Umehara
通讯作者：
Noritsugu Umehara
发动机油中炭黑对无氢类金刚石碳涂层磨损的影响
DOI：
--
发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
--
作者：
Y. Mabuchi;Tsuyoshi Higuchi;D. Yoshimura;M. Murashima;H. Kousaka;N. Umehara
通讯作者：
N. Umehara
影响因子：
1
作者：
S. Kanda;T. Tokoroyama;N. Umehara;Y. Fuwa
通讯作者：
S. Kanda;T. Tokoroyama;N. Umehara;Y. Fuwa