熱プラズマジェットミリ秒熱処理を用いたSiO_x薄膜からのSiナノ結晶形成とその電荷注入特性
熱プラズマジェットミリ秒熱処理を用いたSiO_x薄膜からのSiナノ結晶形成とその電荷注入特性
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热等离子体射流毫秒热处理从SiO_x薄膜形成硅纳米晶及其电荷注入特性
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
岡田竜弥
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T. Okada;T. Okada;H. Furukawa;H. Furukawa;T. Yorimoto;T. Okada;岡田竜弥;岡田竜弥
